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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机-CN201620920059.7有效
发明人：王昱山;刘涛;马强 -专利权人：天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及直写式光刻机领域，尤其涉及一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机。直写式光刻机控制面板的锁紧机构包括骨架和支撑装置；骨架固定连接在直写式光刻机的底座上；直写式光刻机上的控制面板与骨架可拆卸连接；直写式光刻机上的气动门保护板的一端与骨架固定连接，另一端与控制面板可拆卸连接直写式光刻机包括上述直写式光刻机控制面板的锁紧机构，气动门保护板和控制面板。本实用新型提供的直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机，具有结构简单新颖，稳定性强，便于拆装，且方便实用等诸多技术优势。
一种直写式光刻控制面板机构

[发明专利]一种圆筒式静电纺丝近场直写装置-CN201911018541.6在审
发明人：王晗;张荣光 -专利权人：季华实验室
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：本发明涉及静电纺丝技术领域，尤其涉及一种圆筒式静电纺丝近场直写装置。本发明的圆筒式静电纺丝近场直写装置，包括近场直写纺丝针头、圆筒式接收器、以及高压电源，其中：圆筒式接收器设置在近场直写纺丝针头的下方；高压电源的正极连接近场直写纺丝针头，高压电源的负极连接圆筒式接收器。本发明的圆筒式静电纺丝近场直写装置，接收装置采用圆筒式接收器，增大了可纺面积，实现了更大面积的纳米纤维图案的打印；极大地缩减了可实现大面积纳米纤维图案打印的直写装置占用空间；此外，同时实现了极小间距的纤维精确沉积
圆筒式近场接收器直写装置高压电源静电纺丝纺丝针头直写纳米纤维静电纺丝技术负极连接图案打印占用空间正极连接沉积打印纤维图案

[实用新型]一种圆筒式静电纺丝近场直写装置-CN201921797740.7有效
发明人：王晗;张荣光 -专利权人：季华实验室
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： D01D5/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及静电纺丝技术领域，尤其涉及一种圆筒式静电纺丝近场直写装置。本实用新型的圆筒式静电纺丝近场直写装置，包括近场直写纺丝针头、圆筒式接收器、以及高压电源，其中：圆筒式接收器设置在近场直写纺丝针头的下方；高压电源的正极连接近场直写纺丝针头，高压电源的负极连接圆筒式接收器本实用新型的圆筒式静电纺丝近场直写装置，接收装置采用圆筒式接收器，增大了可纺面积，实现了更大面积的纳米纤维图案的打印；极大地缩减了可实现大面积纳米纤维图案打印的直写装置占用空间；此外，同时实现了极小间距的纤维精确沉积
一种圆筒静电纺丝近场装置

[实用新型]一种直写式光刻机的电控装置及直写式光刻机-CN201620920021.X有效
发明人：王新旺;刘涛;杨振玲 -专利权人：天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及直写式光刻机设备技术领域，尤其涉及一种直写式光刻机的电控装置及直写式光刻机。其中，直写式光刻机的电控装置包括上位机、通信控制器件、激光器控制器件、聚焦控制器件、外围控制器件和温湿度监测器件；通信控制器件的一端与所述上位机电连接，另一端分别与激光器控制器件、聚焦控制器件、外围控制器件以及温湿度监测器件的输入端电连接直写式光刻机包括上述直写式光刻机的电控装置。本实用新型提供的直写式光刻机的电控装置及直写式光刻机，摆脱了上位机直接控制下位机的情况，接口连接稳定可靠。
一种直写式光刻装置

[发明专利]一种打印设备-CN201811653123.X在审
发明人：曹志强 -专利权人：北京梦之墨科技有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： B22F3/115 文献下载
摘要：本发明提供了一种打印设备，涉及打印技术领域；该打印设备包括直写式打印头，用以通过接触的方式在印制基底上进行打印作业；与所述直写式打印头配合的压力调节机构，用以将所述直写式打印头与所述印制基底之间的第一接触压力调节至第二接触压力；所述直写式打印头以所述第二接触压力在印制基底上进行打印作业。本发明通过对直写式打印头设置压力调节机构，可以满足不同接触压力需求的印制，保障良好的印制效果，提高打印机的可靠性和稳定性。
一种打印设备

[实用新型]一种打印设备-CN201822241764.6有效
发明人：曹志强 -专利权人：北京梦之墨科技有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： B22F3/115 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种打印设备，涉及打印技术领域；该打印设备包括直写式打印头，用以通过接触的方式在印制基底上进行打印作业；与所述直写式打印头配合的压力调节机构，用以将所述直写式打印头与所述印制基底之间的第一接触压力调节至第二接触压力；所述直写式打印头以所述第二接触压力在印制基底上进行打印作业。本实用新型通过对直写式打印头设置压力调节机构，可以满足不同接触压力需求的印制，保障良好的印制效果，提高打印机的可靠性和稳定性。
打印头直写印制打印设备接触压力基底压力调节机构本实用新型打印作业接触压力调节打印机打印配合

[发明专利]一种基于等分因子的直写式光刻机曝光方法-CN201910815567.7有效
发明人：赵美云 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基于等分因子的直写式光刻机曝光方法，可解决当前直写式光刻机曝光技术的直写式光刻机的最小特征图形的解析能力和图形分辨能力较低的技术问题。本发明采用等分因子技术，将直写式光刻机的光刻版图进行等分，然后对数据进行栅格化并进行重组，使得DMD数字微镜在每次进行刷新时，加载不同时刻的光刻数据，从而完成曝光；取代了传统的完全依赖光刻机物镜倍率来提升最小特征图形解析的能力和图形精细度本发明通过等分因子提升了直写式光刻机的最小线宽的解析能力，同时增加了写式光刻机的产能。
一种基于等分因子直写式光刻曝光方法

[发明专利]控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机-CN202111235304.2有效
发明人：赵美云 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机，直写式光刻机包括空间光调制器件，方法包括：获取原始光刻图形；获得用于本次曝光的形变后光刻图形，并提取其中的第二特征图形数据单元；查询预存的数据仓库；确定数据仓库中存在同类型的目标形变后光刻图形将第二特征图形数据单元与数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对；确定存在与第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元，将对应的空间光调制器件所需数据转换为第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据；控制直写式光刻机的空间光调制器件本发明的控制直写式光刻机的方法处理时间短，可通过软件实现对数据的处理，提升了直写式光刻机的产能。
控制直写式光刻方法

[发明专利]直写式光刻机及漏水检测方法-CN202010967731.9在审
发明人：朱会敏 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： G01M3/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写式光刻机及漏水检测方法。直写式光刻机包括水冷式温度调节模块、漏水检测模块、信号处理模块和用于输出是否存在漏水信号的反馈信号输出模块。漏水检测模块包括漏水检测带，漏水检测带与水冷式温度调节模块接触，当漏水检测带浸水时，漏水检测带的阻值变化，信号处理模块与漏水检测模块通讯、反馈信号输出模块均连接，信号处理模块检测漏水检测带的阻值变化。根据本发明的直写式光刻机，通过设置漏水检测带、且使漏水检测带与水冷式温度调节模块接触，可以对直写式光刻机的漏水、冷凝水的情况作出快速反馈，进而可以实时跟进直写式光刻机的工作状况，从而可以提升整机系统的安全性和稳定性
直写式光刻漏水检测方法

[发明专利]一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统-CN202110428517.0在审
发明人：匡翠方;罗昊;李海峰;刘旭;魏震;温积森;樊吴申 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统，通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合，以及引入抑制光束阻止激发光焦斑边缘位置的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制；并通过光纤阵列和普通空间光学器件实现多通道并行直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。
一种基于光纤阵列通道并行分辨直写式光刻系统

[发明专利]一种微波辐照3D打印设备及打印方法-CN201811607616.X在审
发明人：王奔;明越科;段玉岗;张小辉;肖鸿;姚学玲 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： B29C64/165 文献下载
摘要：一种微波辐照3D打印设备及打印方法，包括打印运动平台、直写式石墨烯3D打印头和微波辐照系统；直写式石墨烯3D打印头和微波辐照系统均设置在打印运动平台的上方，直写式石墨烯3D打印头的出口朝向打印运动平台，
微波辐照打印运动打印头石墨烯直写打印设备打印微波照射发射出口

[发明专利]一种直写式曝光机工作台组件及直写式曝光机-CN201910388456.2在审
发明人：蔡志国;王友车 -专利权人：苏州微影激光技术有限公司
申请日： 2019-05-10 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光机技术领域，公开一种直写式曝光机工作台组件及直写式曝光机。其中直写式曝光机工作台组件包括平行且间隔设置于工作台上卷放装置和卷收装置，用于对待曝光卷材的卷放和卷收；与工作台连接的移动装置，被配置为能带动工作台相对曝光系统移动，以使曝光系统能对卷放装置和卷收装置之间的待曝光材料进行曝光还公开了一共包括上述直写式曝光机工作台组件的直写式曝光机。
直写曝光机工作台曝光机曝光卷材卷放装置工作台卷收装置曝光系统间隔设置卷轴装置曝光材料曝光区域相对静止移动装置直接安装组件包括卷收拉扯平行移动配置

[实用新型]一种直写式曝光机工作台组件及直写式曝光机-CN201920671311.9有效
发明人：蔡志国;王友车 -专利权人：苏州微影激光技术有限公司
申请日： 2019-05-10 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及曝光机技术领域，公开一种直写式曝光机工作台组件及直写式曝光机。其中直写式曝光机工作台组件包括平行且间隔设置于工作台上卷放装置和卷收装置，用于对待曝光卷材的卷放和卷收；与工作台连接的移动装置，被配置为能带动工作台相对曝光系统移动，以使曝光系统能对卷放装置和卷收装置之间的待曝光材料进行曝光还公开了一共包括上述直写式曝光机工作台组件的直写式曝光机。
直写曝光卷材曝光机工作台卷放装置曝光机工作台本实用新型卷收装置曝光系统间隔设置卷轴装置曝光材料曝光区域相对静止移动装置直接安装组件包括卷收拉扯平行移动配置

[发明专利]基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统-CN202110428488.8在审
发明人：匡翠方;罗昊;李海峰;刘旭;魏震;汤孟博 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统，该系统的激光直写过程是通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合实现的，并且引入一束环形抑制光束来阻止激发光焦斑边缘区域内的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制。通过在系统中复用多个上述光纤选模耦合器，以及光纤开关阵列和其它光学和机械元件的协调控制，有望实现超万束的大规模并行式直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。
基于光纤耦合器通道并行分辨光刻系统

[实用新型]一种直写式光刻机的自动门-CN201920816364.5有效
发明人：彭海磊;刘栋;蔡瑞;章卫平;李伟成;张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种直写式光刻机的自动门，置于所述直写式光刻机的支架上，所述自动门包括置于所述直写式光刻机支架上相对的第一平行轨道和相对的第二平行轨道，沿所述第一平行轨道滑动的第一门板、相对于所述第二平行轨道滑动的第二门板以及制动装置以及应用前述自动门的直写式光刻机。所述自动门通过两个门板联动或者单独运动实现所述自动门的开启或者闭合，两个门板的使用，减小了单个门板的面积，进而可以减小所述挡板的面积，实现减小所述直写式光刻机体积的目的。
门板平行轨道直写式光刻机自动门滑动减小支架制动装置控制闭合挡板单独运动开启位置制动装置联动应用

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